如图3-1所示,一矩形半导体薄片,当沿其x方向通有均匀电流I,沿Z方向加有均匀磁感应强度的磁场时,则在y方向上产生电势差。这种现象叫霍尔效应。
所生电势差用VH表示,成为霍尔电压,其相应的电场称为霍尔电场Ey。实验表明,在弱磁场下,Ey同J(电流密度)和B成正比
(1)
式中RH为比例系数,称为霍尔系数。
在不同的温度范围,RH有不同的表达式。在本征电离完全可以忽略的杂质电离区,且主要只有一种载流子的情况,当不考虑载流子速度的统计分布时,对空穴浓度为p的P型样品
(2)
式中q为电子电量。对电子浓度为n的N型样品
(3)
图3-1
当考虑载流子速度的统计分布时,式(2)、(3)应分别修改为
(4)
式中μH为霍尔迁移率。μ为电导迁移率。对于简单能带结构
(5)
gH称为霍尔因子,其值与半导体内的散射机制有关,对晶格散射gH=3p/8=1.18;对电离杂质散射gH=315p/512=1.93,在一般粗略计算中,gH可近似取为1.
在半导体中主要由一种载流子导电的情况下,电导率为
和
(6)
由式(4)得到
和
(7)
测得RH和σ后,μH为已知,再由μ(N,T)实验曲线用逐步逼近法查得μ,即可由式(4)算得n或p。这样得到的γh=μH/μ,已计入了多种散射同时存在的影响和能带结构修正。
在温度较高时,半导体进入过渡区和本征导电范围,必须考虑样品中同时存在两种载流子的影响.在弱电场条件下,可以证明
(8)
式中b=μn/μp。对N型半导体
n=ND-NA+p (9)
对P型半导体
p=NA-ND+n (10)
如只考虑晶格散射,电导率为
(11)
式中μLn和μLp和分别为电子的晶格散射迁移率,这里b=μLn/μLp。由式(9)、(10)和(11)可得
N型 (12)
P型 (13)
μLn和μLp可查阅实验手册。当b已知,便可由测得的电导率计算出n和p的值。
步骤(1)对于电磁铁的磁化电流IM为定值(相应有一个确定的磁场B,参见仪器上标签),取10种不同的工作电流IS(0~10mA),测量相应的霍尔电压VH,共测量5个工作点(Bi,i=1,2,3,4,5),具体如下:
步骤(2)对于每个Bi,横坐标取工作电流IS,纵坐标取霍尔电压VH,理论上得到一条通过坐标原点“0”的倾斜直线,计算其斜率RHB/d,求其平均值
;根据己知的B和d(0.2mm),求得其霍尔系数RHi。
步骤(3)计算五个工作点的霍尔系数平均值。
步骤(4)根据和己知载流子的电量e,可求得载流子浓度n。