设备名称
高真空磁控溅射镀膜机
生产厂家
中科院沈阳科仪研制中心
设备型号
JGP450
放置地点
材料馆B118
负责人
景勤
联系电话
8064504
收费标准
设备简介
直流、射频两用三靶高真空磁控溅射镀膜机
主要功能
薄膜制备
技术参数
镀膜室尺寸：φ450×450mm
极限真空：6.6×10-5Pa
靶位：3个
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