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实验一 碳薄膜真空蒸镀技术

     

    IXRF VC-100真空镀膜机各部件名称示意图

     

    操作步骤:

    1.连接电源,开启电源开关;

    2.放置待蒸镀的样品,使样品最高点位置处于50-70mm的刻度线之间;

    3.在顶盖的两铜片之间夹持一根碳芯,档位旋转至BAKE位置,按住HEAT加热碳芯,碳芯受热冒烟,待挥发性物质挥发干净,至无烟冒出;

    4.合上顶盖,挡住铜板,按EVAC抽真空,待真空度低于5Pa后,将档位旋转至OUT GAS位置,按住HEAT加热碳芯,真空下降,使挥发性物质散出,直至真空度不再降低;

    5.待真空度达到低于2Pa后,档位旋转至EVAPO位置,移开遮挡铜板,按住HEAT加热碳芯,使碳沉积在样品表面,沉积时间根据需要进行调节。

    注意事项:

    1.必须合上顶盖之后再按EVAC抽真空,否则易造成真空泵损坏;

    2.在BAKE位置加热蒸镀材料时需移开铜板,否则易污染铜板;

    3.不可直视加热的蒸镀材料,应佩戴护目镜;以避免强光刺激眼睛;

    4.待蒸镀样品表面应平整,否则易造成镀膜蒸镀不上或者厚度不均匀;

    5.样品应干燥,无挥发性不易分解,耐热性好;

    6.避免玻璃罩磕碰,轻拿轻放,操作时需佩戴手套